Here you are, for your reference.

忒忒绿 · 2021-01-05 14:05:26Z

Here you are, for your reference.简介

来源: 忒忒绿于 2021-01-05 14:05:26 [档案] [博客] [旧帖] [给我悄悄话] 本文已被阅读：次 (2288 bytes)

本文内容已被 [ 忒忒绿 ] 在 2021-01-05 14:08:14 编辑过。如有问题，请报告版主或论坛管理删除.

回答: 请教，知识产权中的，由金米于 2021-01-05 13:23:54

Mask works (掩膜作品)，在美国指集成电路布图设计图，“掩膜作品” 的译文是根据美国对该定义翻译而成的；在日本，同一概念称作“电路布图”（Circuit Layout）,瑞典称为“布图设计”（Layout Design），欧盟许多国家称为拓扑图（Topography）。我们同样可以在维基百科的英文网站找到相关的解释：

In United States intellectual property law, a "mask work" is a two or three-dimensional layout or topography of an integrated circuit (IC or "chip"), i.e. the arrangement on a chip of semiconductor devices such as transistors and passive electronic components such as resistors and interconnections. The layout is called a mask work because, in photolithographic processes, the multiple etched layers within actual ICs are each created using a mask, called the photomask, to permit or block the light at specific locations, sometimes for hundreds of chips on a wafer simultaneously.

在美国知识产权法中，“掩膜作品”是集成电路（IC或“芯片”）的二维或三维布局或形貌，即半导体器件（例如晶体管和无源电子元件）在芯片上的布置例如电阻和互连。这种布局称为掩模作品，因为在光刻工艺中，实际IC内的多个蚀刻层均使用称为光掩模的掩模来创建，以允许或阻挡特定位置的光，有时同时用于晶圆上的数百个芯片。