这是中国政府官宣吗？首次宣布突破自主DUV光刻机，含8nm节点

https://wap.miit.gov.cn/zwgk/zcwj/wjfb/tz/art/2024/art_2fd2b3eff1f64c9fa27d635932a464ee.html

根据工信部9月公布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，其中包含了氟化氩光刻机（DUV深紫外光刻机），这是一种重要的半导体制造设备。该光刻机的光源波长为193nm，能够实现的分辨率小于或等于65nm，套刻精度小于或等于8nm。

见13页

所有跟帖： 

• 不知道良率，成本如何 -硬码工- ♂ (0 bytes) () 09/13/2024 postreply 23:00:11

• 据说华为9010芯片的良率是75%，还在进一步提高 -cn_abcd- ♂ (0 bytes) () 09/14/2024 postreply 06:14:07

• euv 也应该快搞出来了吧？！ -panlm_- ♂ (0 bytes) () 09/14/2024 postreply 04:54:00

• 谢谢分享。这是中国国产DUV光刻机成功通过技术验证，开始定型生产。中国政府给予最先采用国产光刻机的厂家优惠 -thore- ♂ (0 bytes) () 09/14/2024 postreply 05:00:55