这是中国政府官宣吗？首次宣布突破自主DUV光刻机，含8nm节点

来源: 于 2024-09-13 22:58:31 [旧帖] [给我悄悄话] 本文已被阅读：次

https://wap.miit.gov.cn/zwgk/zcwj/wjfb/tz/art/2024/art_2fd2b3eff1f64c9fa27d635932a464ee.html

根据工信部9月公布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，其中包含了氟化氩光刻机（DUV深紫外光刻机），这是一种重要的半导体制造设备。该光刻机的光源波长为193nm，能够实现的分辨率小于或等于65nm，套刻精度小于或等于8nm。

见13页