“不要在euv 光刻机纠缠，向着X 射线激光 光刻技术前进！”

这可能是我们芯片行业弯道超车的机会。

希望行业内人士关注。

华为手机的成功有偶然幸运的因素，不要骄傲自满。

dua 是落后的工艺，即使湿法光刻技术，也已经用到了极限。

突破5纳米的下限，是做不到的。

芯片的制造核心，就是寻找到更短波长的光波以及运用它的工艺，制程。