武汉芯动科技相当于7nm工艺流片和测试成功。基于中芯国际FinFET N+1。好奇的是中芯为什么不自己做

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芯动科技完成了全球首个基于中芯国际FinFET N+1先进工艺的芯片流片和测试，所有IP全自主国产，功能一次测试通过，这是过去数月工艺迭代和共同努力后获得的里程碑成果。

外界认为中芯国际的N+1代工艺相当于台积电的7nm工艺，不过中芯国际随后澄清说，N+1是中芯国际的内部代号，并不等于7nm。

 

从性能指标看，功耗，逻辑面积，SoC面积都和7nm相当，当时性能稍差，真正7nm性能应该提高35%，而N+1只有20%。

 

从这个角度看，N+1和7nm是性能相当的工艺，而且即将走出实验室, 迈向量产!

 

这是不依赖EUV技术的新突破，可以在一定程度上缓解中国半导体芯片制程落后的局面。

 

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• 早晚的事,但是这个好像快了点 -547788- ♂ (0 bytes) () 10/12/2020 postreply 18:19:26