国内光刻机的研制状况和7nm芯片

在80、90年代，光刻机一直是国家五年计划的科技攻关项目。承担研制的有中科院、电子部和高等学校。

二十一世纪初，国内研制光刻机的总体设计力量集中整合到上海微电子公司。光刻机研制由国家中长期科技发展计划02专项支持。

按照目前的公开信息，国产光刻机水平在DUV（193nm波长）的28nm分辨率。

光刻机研发一直是在追赶状态，很大程度上是进口的冲击。这类精密机械的研发都需要一步一步的积累，以及工业基础的支持。90年代，连加工精密镜头的金刚石车床都是禁运的。光刻机则是中国研发出来一代，国外开放一代。原型样机水平的国产机没法和国外产线退役的二手机竞争。因此，国产机基本上不能在市场上得到支持。现在应该是国产机最好的环境。

中国的精密仪器研制并不是依靠拆机测绘实现的。50年代中国的科学工作者就知道，拆机测绘并不能得到精密仪器设计中最重要的信息：误差控制与分配。光学镜头的折射率、膜系、面形都很难通过测绘获得精密的数据，更不要说工艺参数了。

中国的7nm芯片并不是用国产光刻机制造的，而是用进口光刻机通过多次曝光实现的。良率的低下，关键因素是多次曝光，而不是国产设备。

所有跟帖： 

• 可信度高！ -方外居士- ♂ (0 bytes) () 01/05/2026 postreply 14:09:34

• 中国在精密制造领域长期落后，原因有几个，最主要的是没有顶级人才长期研究。 -衡山老道- ♂ (117 bytes) () 01/05/2026 postreply 14:38:44

• 没有市场反馈就很难进步。 -方外居士- ♂ (0 bytes) () 01/05/2026 postreply 14:56:59

• 有顶级人才长期研究，故宫里那清明上河图，就临了好几十年，毛儿席保证 -走资派还在走- ♂ (0 bytes) () 01/05/2026 postreply 15:43:32

• 清明上河图临摹办公室，“清河办“是科级还是处级？ -coach1960- ♂ (0 bytes) () 01/05/2026 postreply 16:11:00

• “清河办“ - 北京市清河农场办事处是副局级单位，就是盲流们挖沙子的地方 -znr0505- ♂ (0 bytes) () 01/05/2026 postreply 18:11:53

• 那地方离我们学校不远，挺熟悉的。文革时邓公子朴方落难住在那里 -coach1960- ♂ (0 bytes) () 01/05/2026 postreply 19:36:06

• 从装配好的原机反向找到误差控制与分配其实并非不可为， 但难在国内体系下寻得原创突破性思维来完成这步，连大行其道模仿也如此 -绝对匿名- ♂ (0 bytes) () 01/05/2026 postreply 18:08:06

• 如果不懂原理，如何反推误差分配和控制？如果搞懂了原理，就可以自己设计了 -nnndayd- ♂ (193 bytes) () 01/05/2026 postreply 18:22:01

• 从原始机器是可以反推找到其零件之间的公差配合的。只是这是个不小的工程课题，据你的信息，国内的人可能无从着手罢了 -绝对匿名- ♂ (0 bytes) () 01/05/2026 postreply 18:45:53

• 现在应该是国产机最好的环境。是的，仅仅光源中国就可以做的比ASML 先进。光刻机的其它方面如果中国倾国家之力去做也都是个 -gweipwu- ♂ (27 bytes) () 01/05/2026 postreply 19:20:37