中国一直在研制光刻机。从80年代到现在一直没有停止

在80、90年代，光刻机一直是国家五年计划的科技攻关项目。承担研制的有中科院、电子部和高等学校。

二十一世纪初，国内研制光刻机的总体设计力量集中整合到上海微电子公司。光刻机研制由国家中长期科技发展计划02专项支持。

按照目前的公开信息，国产光刻机水平在DUV（193nm波长）的28nm分辨率。

中国的精密仪器研制并不是依靠拆机测绘实现的。50年代中国的科学工作者就知道，拆机测绘并不能得到精密仪器设计中最重要的信息：误差控制与分配。光学镜头的折射率、膜系、面形都很难通过测绘获得精密的数据，更不要说工艺参数了。

中国的7nm芯片并不是用国产光刻机制造的，而是用进口光刻机通过多次曝光实现的。良率的低下，关键因素是多次曝光，而不是国产设备。

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• 在你研究的过程中（不是指复制），你就有可能创新。 -金笔- ♂ (0 bytes) () 01/05/2026 postreply 15:30:51