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来源: 于 2020-05-17 15:58:06 [博客] [旧帖] [给我悄悄话] 本文已被阅读：次

上海微电子将于今年（2020年）12月下线首台采用ArF光源的可生产11纳米的SSA800/10W光刻机(单次曝光28nm节点浸没光刻机)，采用NA1.35透镜组，并搭载超精密磁悬浮双工件台和超纯水浸入系统。同时采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7纳米。该光刻机有生产7nm制程的潜力（多次曝光）