中国自制DUV光刻机已经进入调校阶段,马上就要实际投入使用了

在上海半导体展会上,新凯来宣布自制成功28纳米光刻机,可以支持生产5纳米晶片。这种在国际展会上的官宣应该不会是假消息了,据说中芯国际已经开始调校国产光刻机,很快就可以投入使用。5纳米虽然跟2纳米国际领先水平还有距离,但已经可以应对绝大多数晶片生产了。不得不说,中国在光刻机领域的突破真的让人震惊,毕竟ASML的光刻机可是集全球发达国家合力才能制造出来,中国凭借一国之力,能做到这一步,实在是了不起。估计ASML现在恨死美国了,成熟制程的晶片价格很快就会大跌了。

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