中芯传试产大陆自製 DUV 拚7奈米

中芯国际正在测试由上海新创公司宇量昇科技研发的深紫外光（DUV）微影设备，力图挑战西方业者在人工智慧（AI）晶片领域的优势。

 

知情人士透露，中芯正在测试一台28奈米（nm）DUV微影设备，并利用所谓「多重图样化技术」（multi-patterning techniques）来生产7奈米晶片。据透露，中芯试用的这类设备，也可能被推到极限以生产5奈米处理器，但良率会偏低，无法再进一步製造更先进的产品。