目前的国产半导体自主设备进度:
北方华创:刻蚀设备14纳米搞定,10纳米在研。沉积设备14纳米客户验证中
中微:刻蚀设备5纳米量产,3纳米在研
拓荆:沉积设备10-14纳米客户验证中
盛美:清洗设备14纳米量产
至纯:清洗设备7,10,14纳米客户验证中
屹唐:刻蚀设备5纳米客户验证中,去胶设备5纳米量产
微导:沉积设备28纳米量产
华海清科:抛光设备14纳米客户验证中
芯源微:涂胶设备28纳米量产
中科飞测:检测设备10-14纳米在研