光纯度相干性小型化优于气体KrF激光，但193nm激光做3nm芯片有困难，还得靠EUV。

来源: 一剑霜寒于 2025-03-29 13:08:24 [档案] [博客] [旧帖] [给我悄悄话] 阅读数 : (0 bytes)

回答: 能生产3nm！中科院成功研发全固态DUV光源技术：完全不同于ASML 由 943279561 于 2025-03-29 12:05:02

您的位置：文学城 » 论坛 » 时事述评 » 光纯度相干性小型化优于气体KrF激光，但193nm激光做3nm芯片有困难，还得靠EUV。

WENXUECITY.COM does not represent or guarantee the truthfulness, accuracy, or reliability of any of communications posted by other users.