产能目前还严重不足。
待国产28纳米深紫外光光刻机今年内稳定量产,大陆芯片产业就会摆脱被卡脖子的被动局面了。
再过几年,国产7纳米极紫外光光刻机有可能投产。那时大陆就可能生产高端3纳米、甚至1纳米芯片。
值得注意的是,中国大陆碳基芯片不久有望突破,走出完全不同于硅基芯片的技术路线。到那时,国内芯片业受困于极紫外光EUV光刻机的瓶颈的局面也就不复存在了。
毫无疑问,5至10年内,芯片设计、制造和应用的产业链并将完全掌握在中国大陆的手里。
产能目前还严重不足。
待国产28纳米深紫外光光刻机今年内稳定量产,大陆芯片产业就会摆脱被卡脖子的被动局面了。
再过几年,国产7纳米极紫外光光刻机有可能投产。那时大陆就可能生产高端3纳米、甚至1纳米芯片。
值得注意的是,中国大陆碳基芯片不久有望突破,走出完全不同于硅基芯片的技术路线。到那时,国内芯片业受困于极紫外光EUV光刻机的瓶颈的局面也就不复存在了。
毫无疑问,5至10年内,芯片设计、制造和应用的产业链并将完全掌握在中国大陆的手里。
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