自媒体：重磅！某司今年已经开始生产等效5纳米芯

来源: cn_abcd 于 2024-02-25 08:38:41 [] [博客] [旧帖] [给我悄悄话] 阅读数 : (1892 bytes) 
三维集成可以采用相对落后的设备（尤其是不需要EUV光刻）达到＜7nm等效，较为适合我国现状，该研究中心由南方科技大学牵头，联合深南电路、广东省科学院半导体所等单位共同建设。
某司自研的finfet，通过扩大栅极面积，7纳米finfet的整体性能可以与3纳米GAA相媲美，并且只需DUV来做，某司今年已经开始生产等效5纳米芯片。而在7nm以下的先进工艺研究上，某司的应对方法是一边参与甚至主导国产EUV光刻机研发，另一边是继续魔改尼康NSR光刻机，比如把光源换成157nm提升套刻精度，换激光干涉仪（国产塞曼双折射双频激光器）。

 

 

 

去年QL旗舰芯片的工艺节点等效台积电的7nm工艺，也跟中芯的 N+2P工艺类似。等效台积电6nm的QL芯片今年下半年将会量产，项立刚曾表示DUV换先进光源往下工艺迭代也能达到EUV水平，鼓吹EUV是台积电和ASML的阴谋，国产浸没式DUV生产的QL芯片大概率25年就会上市，该芯片通过自研架构+先进封装的方式在明年将追上当时主流旗舰芯片的性能。

 

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