光刻房长100 米,宽20 米。 中国EUV 功率强大,输出功率是10000瓦,而荷兰的EUV 光刻机的输出功率只有250 瓦。 因为中国的EUV功率强大,一次曝光就能刻三纳米,而不是像荷兰那样要多次曝光才能刻三纳米。台积电的三纳米良率不是很高,苹果让其自己吸纳次品的额外费用。
中国的EUV 光刻房概念颠覆ASML 的光刻机,一个光刻房可以带很多EUV 光刻工作台。中国一个EUV 光刻台就相当于一个荷兰的EUV光刻机。因为中国光刻机是一次曝光就能刻到三纳米,良品率理论上也会很高。
据说中国光刻房今年下半年验收,明年就可以交付使用。因为输出功率很大,耗电也很厉害,发热问题也需要解决。这些都不是解决不了的问题。 中国太阳能发电每年浪费掉很多,因为不能储能。