为什么国内的晶圆厂，用ASML的光刻机，但不愿意用国产？
前段时间，有机构发布了一个数据，那就是全球前道光刻机的销售情况表。
数据显示，目前在前道光刻机上，国产光刻机的份额为0，全部被荷兰的ASML、日本的尼康、佳能垄断着。
先进工艺的就不说了，国产无法替代，但哪怕是国产光刻机覆盖到的180nm以上的光刻机，大家都用的是ASML、尼康、佳能的，而不是国产的上海微电子的。
而有业内人士有示，目前国内的晶圆厂，在光刻机上，只要有ASML的可买，就一般不会用国产光刻机，国产光刻机哪怕是不要钱，送到晶圆厂的，大家都爱用不爱，测试用的国产光刻机，用得非常少，都是在吃灰。
那么问题就来了，为何晶圆们不愿意用国产光刻机，更愿意用ASML等厂商的国外货，是崇洋媚外么？
还真不是崇洋媚外在作祟，背后其实还是生态的问题。
我们知道芯片制造，是非常复杂的，需要几十上百种设备，上百道工序，这些过程，由各种设备来协同工作。
这些设备之间，需要非常紧密的配合，而ASML的光刻机，与各种各样的设备，早就形成了兼容以及协同，大家配合无间。
一旦光刻机换了，能不能与这一大批的国外设备兼容，且达到紧密的协同还真不好说。
同时，光刻机的精度，其实是一个宽度适应的，比如ArFi光刻机，可以用于7-45nm，而ArF干式光刻机，可用于65-180nm。
ASML或尼康的光刻机，可以进行精度比较广的适应，但是国产光刻机，技术相对较为落后，无法适应这么宽的精度，甚至只能专机专用，让晶圆厂 也是左右为难，需要重复投资，原本一台ASML的光刻机搞定了，最后买了国产光刻机，还需要ASML的，投资浪费了。
还有，使用国产光刻机，让晶圆厂对良率也产生了怀疑，良率就是晶圆厂的生命，决定了成本、效率等等。
所以大家一般情况下，更愿意用成熟的，自己熟悉的产品，这样保证自己的收入、成本、效率等，不愿意冒险使用国产光刻机。
当然，目前在国产化的趋势之下，国产光刻机也迎来了机会，但是如果在生态、与其它设备的兼容、工艺上进行提升，国产光刻机还是很难抢ASML的市场，晶圆厂们，并不太愿意去用它。
