圍堵陸晶片 美日荷達協議
彭博新聞廿七日報導，美日荷已達成協議，日本與荷蘭將和美國一同限制半導體設備製造商出口能製造先進晶片的設備到中國。消息揭露前數小時，歐盟內部市場業務執行委員布勒東說，歐盟對美國「充分」承諾，將達成使中國半導體業窒息的目標；「我們完全贊同使中國無法取得最先進晶片的目標，不能任由中國獲得最先進科技」。
全球目前僅有荷蘭和日本有能力製造光刻機，而光刻機是生產晶片的關鍵設備。美日荷廿七日達成的協議將限制艾司摩爾（ＡＳＭＬ）、Nikon和東京威力科創（Tokyo Electron Ltd）等大廠，不得將先進晶片的製造設備出口至中國；例如，艾司摩爾就不得出售深紫外光微影（ＤＵＶ）設備給中國。
美國去年十月七日宣布，限制美商將特定先進晶片和製造設備出售給中國廠商，展開與北京的半導體競爭，中國狀告世界貿易組織（ＷＴＯ）要求推翻美國的管制措施；當時拜登政府承認還沒和盟友講好一致行動。
彭博引述知情人士說法報導，美日荷廿七日在華府達成針對部分先進晶片製造設備出口限制的協議，但是協議內容不公開。此外，日荷兩國還需要花費數月時間完成法律工作，落實禁令。
英國金融時報也報導，在廿七日最後一輪的高階官員三方會談後，美日荷達成協議，距離美國獨自實施出口管制禁令已經三個月餘，最新協議對拜登政府阻止中國發展半導體產業來說，是重要里程碑，也是拜登的外交勝利。
荷蘭首相呂特廿七日在海牙表示，相關討論已持續好一段時間，事涉敏感，荷蘭政府謹慎以對。
