"其实,光学所的光刻机,完全可以专门用来制造纳米电路的掩模,比如制造出1纳米,5纳米,10纳米,22纳米的电路图模板。一旦纳米级别的母板出来,再用传统的化学光刻技术,成千万“印刷出成品芯片”。与传统的光刻技术不同的是, 因为电路掩模已经是纳米级别的,它的物镜系统只需一面镜子!光源只需要几万元一个!制造座高级别的芯片,只需要80年代的芯片制造技术,流片一次,只需上万元!"
整篇文章的关键就是这一段。
1,光学所的光刻机可以用来做掩模。目前工业用的掩模是用电子束直写系统制造的。在这方面,光学所的光刻机要和电子束直写设备竞争。
2,“有了纳米级的母版...”云云,现在已经有了。现代的光刻已经用到了纳米级的母版了。就是用电子束系统生产的。
3,有了母版,只要一面镜子。这个就可笑了。这一步就是现代光刻机的工作,把母版光刻到硅片上。否则人家在干吗?
这就是个外行。