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上海微电子将于今年（2020年）12月下线首台采用ArF光源的可生产11纳米的SSA800/10W光刻机(单次曝光28nm节点浸没光刻机)，采用NA1.35透镜组，并搭载超精密磁悬浮双工件台和超纯水浸入系统。同时采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7纳米。该光刻机有生产7nm制程的潜力（多次曝光）

所有跟帖： 

• 还有合格率的问题，我看到的资料是不可能。 -haifengyuan- ♂ (0 bytes) () 05/17/2020 postreply 16:00:50

• 国家利益 -amigo- ♂ (59 bytes) () 05/17/2020 postreply 16:03:05

• SMEE计划2021年交付首台国产的28nm的immersion光刻机 -南山阳- ♂ (384 bytes) () 05/17/2020 postreply 16:20:12

• 20年前可没有28nm技术，2009年40纳米刚量产，28纳米开发中 -wjhwsh- ♀ (0 bytes) () 05/17/2020 postreply 22:07:42

• 国产最快明年才能交付28nm的。 -West_East- ♂ (0 bytes) () 05/17/2020 postreply 16:28:24

• Are you serious? 这和当年水变油有一拼 -yeke- ♂ (0 bytes) () 05/17/2020 postreply 16:35:40

• 差距有20年以上 -haifengyuan- ♂ (0 bytes) () 05/17/2020 postreply 16:42:14