凯世通10nm及以下高能离子注入机完成验收和中国半导体设备制造现况。

来源: huntridge 2021-12-27 16:57:47 [] [博客] [旧帖] [给我悄悄话] 本文已被阅读: 次 (3157 bytes)
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https://www.laoyaoba.com/n/802747

集微网消息,12月27日,万业企业在互动平台表示,公司旗下凯世通的高能离子注入机设备已顺利通过验证并完成验收。目前公司正在积极推进相关业务。

据悉,万业企业于2018年收购凯世通,以集成电路离子注入机为“拳头”产品,正式进军集成电路装备赛道。

凯世通创始团队主要来自世界知名离子注入机公司,深耕离子注入机领域30多年,在集成电路产业界工艺技术更新换代之际率先开发过多款畅销离子注入机。随着集成电路芯片工艺制程不断微缩,针对国内外客户先进工艺芯片制造的离子注入需求,凯世通选择“领先一步”的产品定位策略,在“10nm及以下三维器件结构FinFET集成电路离子注入机研发与产业化”科技项目支持下,开发面向前沿工艺的离子注入机(基于超越7纳米离子注入平台),并建立相应的研发平台、核心关键技术及工艺的研究参数数据库和性能检测规范标准。

评论:离子注入设备是3个中国半导体设备率小于5%中的一个(下图)。新中标设备率超过下图所示数据。比如刻蚀的国产化率为22%。解释了从2016到2020的增加。

https://pdf.dfcfw.com/pdf/H3_AP202105281494477002_1.pdf?1622217308000.pdf

国内半导体设备中标明细及其国产化率统计

https://new.qq.com/rain/a/20211204A08WTL00?

 

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上海微电子今年没完成任务,不过只要实实在在做事,总会成功的 -cn_abcd- 给 cn_abcd 发送悄悄话 cn_abcd 的博客首页 (0 bytes) () 12/27/2021 postreply 18:27:44

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