先看传统的光刻机的工作原理：
传统的光刻机，就是通过物镜系统，把掩膜的电路图缩成纳米，投射到光刻胶上曝光成像，然后放到特殊化学药液里边，曝光的地方，可以自动溶解掉，形成“凹巢电路图”，然后注入铜液，铜液凝固后，抹平，电路图变成了芯片。
传统的光刻机有一个很大的问题，所谓衍射问题。光源照射物镜系统，如果物镜系统过多，会形成衍射，也就是最终投射到光刻胶的图案会变形。
解决方法有两个：1，是用更短的波源（比如深紫外线），2， 是更加复杂的物镜系统。
但是增加物镜系统，会增加控制系统以及各种设备的制造复杂程度，导致现在光刻机越来越贵，达到上亿美元一台。联电，或者欧洲，米国的一些芯片工厂，甚至公开宣布放弃继续10纳米的制造，专注22纳米以上的，因为越来越用不起了。ASML显然喜欢用这两个越搞越复杂，越搞门槛越来越高的解决方式，因为既可以提高门槛，吓跑竞争者形成垄断，还可以卖出更高的价钱。
中国的科学家们知道在物镜和光源方面与ASML竞争，不仅面临巨大的技术难关，还有专利壁垒。因此想绕开这个光源（德国的蔡司垄断）和物镜系统（ASML垄断）。
光学所的研究人员（中国的光学，激光研究，其实一直是世界领先的，6，70年代就领先）发现，如果用光源照射到一个用特殊电磁做成的圆环状的圆圈时候，会激发金属表面的等离子激元，它可以穿过金属表面的小孔，再发射出去。光可以通过等离子元，汇集到一个非常小的区域（类似传统光刻机的物镜系统），变成了纳米大小（22纳米）的点。很显然，如果投射到光刻胶，就可以用传统的光刻方式，进行化学“光刻”了。
光学所制造的光刻机，是真正意义上“光刻”机，类似一台用激光“画图案”的机器，要么移动激光机，要么移动光刻胶，一点一线地在光刻胶上“刻写”图案。而传统的光刻机，实际不是“光刻”，而是“化学机”：先制造掩模，光源照射掩模模板，然后通过物镜系统的压缩掩模成纳米模板，形成“纳米电路图”。
也就是说，光学所造出的光刻机，完全避开了传统光刻机最厉害，最难做，最值钱的两大系统：光源/物镜系统。他们的光刻机，光源是贡灯，几万元一个。 整个系统不过几百万，完全是白菜价。
光学所的光刻机，是典型的光（光学，光源 ）机（机械控制，需要精密地控制激光器或者放置光刻胶底坐的移动位置，精度达到纳米级）电（用电磁，类似硬盘光盘读写机，精确地定位纳米级别的光投射位置）一体机，而传统的光刻机，说白了，还是属于化学工业范畴。
报道说，这个光刻机现在已经能画出“22纳米的”图案。从中可以看出，光学所的这台光机电一体的激光器，刻字机，是多么的高精尖！
一些人觉得这个东西是非常牛鼻，但是大规模的商用价值存疑。因为如果每一块芯片，都需要用光一笔一划地画出来，那制造几十亿快芯片，得猴年马月！ 而传统的光刻机，只需要制造出一个母版，就可以无限制的“印刷”出来。
其实，光学所的光刻机，完全可以专门用来制造纳米电路的掩模，比如制造出1纳米，5纳米，10纳米，22纳米的电路图模板。一旦纳米级别的母板出来，再用传统的化学光刻技术，成千万“印刷出成品芯片”。与传统的光刻技术不同的是， 因为电路掩模已经是纳米级别的，它的物镜系统只需一面镜子！光源只需要几万元一个！制造座高级别的芯片，只需要80年代的芯片制造技术，流片一次，只需上万元！
有人说，这个激光光刻机，目前只能“画”点，画线，画数列，矩阵，不能画任意图形。傻小子，只要能画出“点”，画出“线”，那么什么图案不能画出来？ 微积分是干什么的？计算机图形学是干什么的？。。。。。
声明一句哈，百分之百的票友， 完全业外人士，上述描述和运用前景图等，都是个人的解读，不一定符合光学所那些大牛的思路，如果不对路，包涵一下哈。
光学所的所长说，现在中国不怕被制裁，不怕被禁运了，应该就是这个原因了。觉得他们应该还隐藏着一些东西没有报道出来。
选择“Disable on www.wenxuecity.com”
选择“don't run on pages on this domain”
